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标签: 半导体蚀刻

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  • 二元III_V族半导体等离子体刻蚀速率数据集

    2025年11月27日 30 206 73

    数据集概述 该数据集汇集了文献报道的主要二元III-V族半导体等离子体刻蚀结果数据，包含刻蚀材料、技术、化学蚀刻剂及刻蚀速率等核心信息，为半导体刻蚀工艺研究提供基础数据支持。 文件详解 文件名称: Etch rate data.xlsx 文件格式: Excel (.xlsx) 字段映射（基于描述推断）： 第一作者姓氏及发表日期（数据条目标识符）...
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