数据集概述
该数据集是关于超薄银纳米线在介孔二氧化硅薄膜孔限制空间中合成研究的支撑数据，包含电化学测量文件和透射电子显微镜图像，为相关材料合成与表征研究提供原始数据支持。
文件详解
该数据集包含一个目录下的15个文件，具体说明如下：
- 电化学测量文件：
- .mpr格式文件（1个）：如Ultra-Thin Silver Nanowires/EASA-Ag4-V6.mpr，存储电化学测量原始数据
- .mpt格式文件（4个）：如Ultra-Thin Silver Nanowires/1N4 - fin - wyp Ag - to neg_C01.mpt，记录电化学测试参数与结果
- 透射电子显微镜图像文件：
- .jpg格式文件（10个）：如Ultra-Thin Silver Nanowires/3_BF_x400k_2.jpg、3_DF_x100k_2.jpg等，包含不同放大倍数（100k、250k、400k等）的明场（BF）、暗场（DF）及衍射图像
适用场景
- 材料科学研究：分析超薄银纳米线的合成工艺与结构表征
- 电化学性能分析：研究介孔二氧化硅薄膜孔限制空间中银纳米线的电化学行为
- 纳米材料表征：通过透射电子显微镜图像探究银纳米线的微观形貌与晶体结构
- 纳米合成技术优化：基于原始实验数据改进银纳米线的孔限制合成方法
