低电阻率高分辨率钨碳电接触点电子束诱导沉积开放数据集

数据集概述

本数据集为论文《Low-resistivity, high-resolution W-C electrical contacts fabricated by direct-write focused electron beam induced deposition》的开放数据,包含实验相关的文本数据及图像文件,用于支撑论文研究内容。

文件详解

该数据集包含15个文件,具体说明如下: - 文本数据文件(.txt格式):共8个,例如Fig3b.txt、Fig5a.txt等。以Fig3b.txt为例,包含原子百分比数据,字段有Box(编号)、W(钨原子百分比)、O(氧原子百分比)、C(碳原子百分比)。 - 图像文件: - .jpg格式:共5个,例如Fig1d.jpg、Fig4.jpg等,为实验相关的图片文件。 - .tif格式:共2个,例如Fig3a.tif、Fig3c.tif等,为实验相关的图像文件。

适用场景

  • 材料科学研究:可用于分析钨碳电接触点的成分与性能关系。
  • 电子束诱导沉积技术研究:为该技术在电接触点制备中的应用提供数据支持。
  • 论文成果验证:支撑相关论文研究结论的复现与验证。
  • 电接触材料性能分析:用于低电阻率高分辨率电接触材料的性能研究。
packageimg

数据与资源

附加信息

字段
作者 Maxj
版本 1
数据集大小 3.95 MiB
最后更新 2025年12月6日
创建于 2025年12月6日
声明 当前数据集部分源数据来源于公开互联网,如果有侵权,请24小时联系删除(400-600-6816)。