硅中散裂诱导氚的扩散去除数据集

数据集概述

本数据集来源于题为《Removal of spallation-induced tritium from silicon through diffusion》的研究论文，核心内容为不同温度下辐照硅片的氚脱附量随时间变化的数据，为氚扩散去除相关研究提供基础数据支持。

文件详解

• 文件名称：GAU_Data_Release.zip
• 文件格式：.zip（压缩包）
• 内容说明：压缩包内包含研究论文中不同温度条件下，辐照硅片释放氚量随时间变化的实验数据（具体字段需解压后查看）

适用场景

• 核材料辐照效应研究：分析硅材料中散裂诱导氚的行为特性
• 氚污染控制技术开发：支撑硅材料氚脱附工艺参数优化研究
• 核反应堆材料性能评估：为含硅结构材料的氚迁移行为分析提供数据
• 放射性废物处理研究：探索辐照硅废料中氚的去除机制与效率