数据集概述
本数据集为《Enhancement of hole mobility in high-rate reactively sputtered Cu₂O thin films induced by laser thermal annealing》一文的配套数据，包含研究相关的元数据、说明文档、压缩数据文件及论文全文，支撑Cu₂O薄膜空穴迁移率增强的实验研究。
文件详解
- 文件名称: Metadata.ods，格式: ODS，为数据集元数据文件，记录研究相关的基础描述信息
- 文件名称: ReadMe.txt，格式: TXT，为数据集说明文档，介绍数据背景及使用说明
- 文件名称: 2024_ZCU_FAV_Rezek_01.zip，格式: ZIP，为压缩数据文件，可能包含实验原始或处理数据
- 文件名称: 1-s2.0-S0169433224009681-main.pdf，格式: PDF，为研究论文全文，对应DOI:10.1016/j.apsusc.2024.160255
适用场景
- 材料科学研究: 分析激光热退火对Cu₂O薄膜电学性能的调控机制
- 薄膜制备技术研究: 探究高速反应溅射工艺与后处理方法的协同优化
- 半导体器件开发: 支撑基于Cu₂O薄膜的光电器件性能提升研究
- 学术论文复现: 为该研究的实验结果验证与方法参考提供数据支持
