Low_Cost_Shadow_Mask_纳米电子低成本阴影掩模制备数据集2023

数据集概述

本数据集对应论文“Low-cost shadow mask fabrication for nanoelectronics”的图表数据，聚焦纳米电子领域的低成本阴影掩模制备技术，为相关研究提供实验支撑数据，共包含一个文件。

文件详解

• 文件名称：Figure3.xlsx
• 文件格式：XLSX
• 字段映射介绍：对应论文中的Figure3图表数据，具体内容未提供预览，推测包含与低成本阴影掩模制备工艺相关的实验参数、测量结果或性能指标等结构化数据。

数据来源

论文“Low-cost shadow mask fabrication for nanoelectronics”（作者：Pucher, Thomas等，期刊：Nanomanufacturing 3.3，2023）

适用场景

• 纳米制造工艺优化: 分析低成本阴影掩模制备技术的关键参数与性能关系，优化制备流程。
• 纳米电子器件研发: 为基于阴影掩模技术的纳米电子器件设计提供实验数据参考。
• 低成本制造技术研究: 探究纳米制造领域低成本工艺的可行性与应用潜力。
• 学术论文数据复现: 支持相关研究人员复现论文中的实验结果与图表分析。