电子束光刻点扩散函数的测量模拟与模型数据集2025

数据集概述

本数据集包含电子束光刻点扩散函数的相关数据，涵盖150千伏下单次电子束曝光的孔半径测量结果、5至150千伏下材料堆叠的蒙特卡洛剂量分布模拟，以及幂律加高斯模型的拟合数据。

文件详解

• 文件名称: Data_Hougs_2025_Measurements.zip
• 文件格式: ZIP压缩包
• 文件内容: 包含电子束光刻点扩散函数的测量数据、模拟数据及模型拟合结果，具体内容需解压后查看

适用场景

• 微电子制造研究: 分析电子束光刻工艺中点扩散函数特性
• 光刻模型优化: 用于验证和改进幂律加高斯等光刻模型
• 半导体工艺开发: 支持电子束光刻参数设计与工艺优化
• 材料科学研究: 探究不同衬底对电子束曝光效果的影响