数据集概述
该数据集为MOCVD法制备硅基外延大面积Sb2Te3薄膜的研究数据，包含与论文《Epitaxial and large area Sb2Te3 thin films on silicon by MOCVD》相关的14个文件，涵盖不同测试方法生成的原始数据及图表文件，支持薄膜结构与性能的分析验证。
文件详解
数据集包含14个文件，按类型分为以下几类：
- ESG格式文件（6个）：使用MAUD软件生成的X射线衍射数据文件，如Figure4_Bragg-Brebtano_Samplename_MOST895_PreAnn_NoPostAnn_Si(111)_BB.esg、Figure4_PhiScan_Samplename_MOST886_Si(111)_ASDEP(notAnneal)_phi(015).esg等，记录Bragg-Brentano扫描和Phi扫描的实验数据。
- TIF格式文件（6个）：图片文件，如Figure 1-b.tif、Figure 1-c2.tif等，为论文中对应图的原始图像。
- OPJU格式文件（1个）：Figure 3.opju，可能为Origin软件生成的图表文件。
- PNG格式文件（1个）：Figure 2.png，为论文中图2的图片文件。
适用场景
- 材料科学研究：分析Sb2Te3薄膜的外延生长特性与结构表征
- 半导体材料分析：研究MOCVD工艺参数对硅基Sb2Te3薄膜性能的影响
- X射线衍射数据分析：验证薄膜的晶体结构及取向关系
- 薄膜制备工艺优化：基于实验数据改进Sb2Te3薄膜的退火处理等工艺步骤
